采用独有的原料萃取体系，实现锆铪的深度分离；通过多次结晶，实现杂质离子的去除，制备的HfO2粉体纯度达到99.99%以上，Zr含量小于0.5wt%。
二氧化铪镀膜材料折射率高，吸收小，特别适用于248nm以下的低吸收薄膜，同时适合镀制AR膜层、滤光片、反射镜以及高硬度和抗划伤光学层。二氧化铪薄膜具有较高的激光损伤阈值(LIDT)，在近紫外到中红外波段的良好透过性能等特点，在制备高性能器件和高能激光方面具有重要的应用。
材料名称 | 二氧化铪 |
分子式 | HfO2 |
产品规格 | 1-3mm，3-5mm |
8*6mm, 10*7mm,18*4.5mm,18*6mm,18*12mm,25*6mm,25*12mm,31*15mm,33*7mm | |
其他规格可根据要求提供 | |
颜色 | 白色、黑色 |
纯度 | 99.99% (Zr<0.5%) |
理论密度 | 9.7 g/cm3 |
折射率 | 1.9~2.07（at 550nm） |
熔点 | 2812 ℃ |
蒸发温度 | 2300~2700℃ |
透光范围 | 220nm~12μm |
蒸发方式 | 电子枪 |
应用领域 | 对激光损伤阈值要求较高的激光涂层 |
AR 涂层、滤光片、反射镜、分束器 | |
保护膜层 | |
质量保证 | COA、RoHS, MSDS |
